特許
J-GLOBAL ID：200903093326146386
光触媒の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
塩澤 寿夫 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-141982
公開番号（公開出願番号）：特開平11-333300
出願日： 1998年05月22日
公開日（公表日）： 1999年12月07日
要約：
【要約】【課題】可視光活性のより高い酸化チタンをベースとする新たな光触媒の製造方法の提供。【解決手段】 炭素源となる物質、水素源となる物質に電磁波を照射してCHラジカル及びHラジカルを発生させ、これらのラジカルに酸化チタンを暴露する方法であって、上記ラジカルの発生を不活性ガスの存在下で行う酸化チタン表面の少なくとも一部にグラファイト、アモルファスカーボン、ダイヤモンドライクカーボン、ダイヤモンド及び炭化水素からなる群から選ばれる少なくとも1種の炭素系析出物を有する光触媒の製造方法。
請求項（抜粋）：
385nmに発光ピークを有するCHラジカル及び655nmに発光ピークを有するHラジカルを含む雰囲気に酸化チタンを暴露する工程を含む、酸化チタン表面の少なくとも一部にグラファイト、アモルファスカーボン、ダイヤモンドライクカーボン、ダイヤモンド及び炭化水素からなる群から選ばれる少なくとも1種の炭素系析出物を有する光触媒を製造する方法であって、前記工程をCHラジカルの385nmにおける発光ピークの強度がHラジカルの655nmにおける発光ピークの強度より強い条件下で行う方法。
IPC (4件)：
B01J 35/02 ZAB
, B01J 19/08
, B01J 21/18
, B01J 37/34
B01J 35/02 ZAB J
, B01J 19/08 H
, B01J 21/18 M
, B01J 37/34
