特許
J-GLOBAL ID：200903093331955934
レジストパターンの形成方法および成形品の形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
谷 義一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-244898
公開番号（公開出願番号）：特開平9-090609
出願日： 1995年09月22日
公開日（公表日）： 1997年04月04日
要約：
【要約】【課題】 本発明のX線リソグラフィは、アルカリ現像性、厚膜解像性、剥離性、メッキ液のぬれ性、耐メッキ液性等の耐薬品性、密着性等に優れ、特にマイクロマシンの形成に好適に用いることができる。【解決手段】 アルカリ可溶性樹脂および多価(メタ)アクリレートを含有するX線レジストを塗布し、塗膜を形成し、パターンを有するマスクを介してX線を照射し、アルカリ現像液で現像することを特徴とするX線リソグラフィによるレジストパターンの形成方法を提供するものである。また、X線リソグラフィによるレジストパターンの形成、メッキによる金属層の形成、レジストパターン剥離による金属鋳型の形成、金属鋳型を用いた射出成形による成形品の形成の工程によって成形品を形成する成形品の形成方法を提供するものである。
請求項（抜粋）：
アルカリ可溶性樹脂および多価(メタ)アクリレートを含有するX線レジストの塗膜を形成し、パターンを有するマスクを介してX線を照射し、アルカリ現像液で現像することを特徴とするX線リソグラフィによるレジストパターンの形成方法。
IPC (9件)：
G03F 7/00
, B29C 33/38
, B29C 45/00
, B29C 45/26
, C09D 4/06 PDQ
, C23C 14/04
, G03F 7/027 502
, G03F 7/20 503
, B29L 31:00
G03F 7/00
, B29C 33/38
, B29C 45/00
, B29C 45/26
, C09D 4/06 PDQ
, C23C 14/04 B
, G03F 7/027 502
, G03F 7/20 503
