特許

J-GLOBAL ID：200903093335956668

投影光学系、該光学系を備える投影露光装置及び露光方法

発明者： 塚本 宏之 ,  高橋 哲男
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 井上 義雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-195275
公開番号（公開出願番号）：特開2001-023887
出願日： 1999年07月09日
公開日（公表日）： 2001年01月26日
要約：

【要約】【課題】光を照射した場合でも極め安定した結像特性を有する投影光学系等を提供すること。【解決手段】 紫外光で照射された第1面3上のパターンの像を第2面9上に投影するための投影光学系であって、第2面からレンズ面までの距離をl,最終像又は中間像が形成される領域の光軸から垂直方向に測った距離の最大値をy<SB>immax</SB>,前記第2面から光軸に沿って前記第1面の方向に向って5y<SB>immax</SB>の距離の範囲内に存在する全ての単レンズ成分の曲率半径をr,該レンズ成分の厚さをdとそれぞれしたとき、|r|>3l,d<1.2lの条件を満足し、かつ、前記投影光学系の最も前記第2面側のレンズ面と前記第2面との光軸に沿った間隔をBfとしたとき、Bf≦y<SB>immax</SB>の条件を満足する。

請求項（抜粋）：

紫外光で照射された第1面上のパターンの像を第2面上に投影するための投影光学系であって、第2面からレンズ面までの距離をl,最終像又は中間像が形成される領域の光軸から垂直方向に測った距離の最大値をyimmax,第2面から光軸に沿って第1面の方向に向って5yimmaxの距離の範囲内に存在する全ての単レンズ成分の曲率半径をr,該レンズ成分の厚さをdとそれぞれしたとき、の条件を満足し、かつ、前記投影光学系の最も第2面側のレンズ面と第2面との光軸に沿った間隔をBfとしたとき、の条件を満足することを特徴とする投影光学系。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  G02B 13/14 ,  G02B 13/24 ,  G03F 7/20 521

FI (4件)：

H01L 21/30 515 D ,  G02B 13/14 ,  G02B 13/24 ,  G03F 7/20 521

Fターム (32件)：

2H087KA21 ,  2H087LA01 ,  2H087NA04 ,  2H087PA15 ,  2H087PA17 ,  2H087PB20 ,  2H087QA02 ,  2H087QA03 ,  2H087QA05 ,  2H087QA06 ,  2H087QA12 ,  2H087QA17 ,  2H087QA19 ,  2H087QA21 ,  2H087QA25 ,  2H087QA32 ,  2H087QA33 ,  2H087QA39 ,  2H087QA42 ,  2H087QA45 ,  2H087RA05 ,  2H087RA13 ,  2H087RA32 ,  2H087RA42 ,  2H087UA03 ,  2H087UA04 ,  5F046BA05 ,  5F046CA04 ,  5F046CB12 ,  5F046DA12 ,  5F046DA27 ,  5F046DB03