特許
J-GLOBAL ID:200903093338885672
交互吸着膜の製造方法および製造装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
山下 昭彦 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-107392
公開番号(公開出願番号):特開2003-300274
出願日: 2002年04月10日
公開日(公表日): 2003年10月21日
要約:
【要約】【課題】 本発明は、比較的簡略な製造装置により、高品質な交互吸着膜を安定に製造することができる交互吸着膜の製造方法を提供することを主目的とするものである。【解決手段】 上記目的を達成するために、本発明は、正の電荷を有する正電荷物質と、負の電荷を有する負電荷物質とが被成膜材料表面に交互に積層されてなる交互吸着膜の製造方法において、上記正電荷物質を含有する正電荷物質含有液を吐出することにより、被成膜材料の表面に液膜を形成するように塗布する正電荷物質含有液塗布工程と、上記負電荷物質を含有する負電荷物質含有液を吐出することにより、被成膜材料の表面に液膜を形成するように塗布する負電荷物質含有液塗布工程とを少なくとも有し、上記正電荷物質含有液塗布工程および上記負電荷物質含有液塗布工程とが、得られる交互吸着膜が必要とする積層数回繰り返されることを特徴とする交互吸着膜の製造方法を提供する。
請求項(抜粋):
正の電荷を有する正電荷物質と、負の電荷を有する負電荷物質とが被成膜材料表面に交互に積層されてなる交互吸着膜の製造方法において、前記正電荷物質を含有する正電荷物質含有液を吐出することにより、被成膜材料の表面に液膜を形成するように塗布する正電荷物質含有液塗布工程と、前記負電荷物質を含有する負電荷物質含有液を吐出することにより、被成膜材料の表面に液膜を形成するように塗布する負電荷物質含有液塗布工程とを少なくとも有し、前記正電荷物質含有液塗布工程および前記負電荷物質含有液塗布工程とが、得られる交互吸着膜が必要とする積層数回繰り返されることを特徴とする交互吸着膜の製造方法。
IPC (4件):
B32B 9/00
, B05C 9/06
, B05D 1/02
, B05D 7/04
FI (4件):
B32B 9/00 Z
, B05C 9/06
, B05D 1/02 Z
, B05D 7/04
Fターム (28件):
4D075AA01
, 4D075AA52
, 4D075AE03
, 4D075BB24Z
, 4D075BB65Z
, 4D075CA47
, 4D075DA04
, 4D075DB31
, 4D075DC21
, 4F042AA22
, 4F042DF15
, 4F042ED02
, 4F100AG00A
, 4F100AK25
, 4F100AK31
, 4F100AK55
, 4F100AT00A
, 4F100BA02
, 4F100DE01
, 4F100DG06A
, 4F100DG15A
, 4F100EH462
, 4F100EH612
, 4F100EJ652
, 4F100EJ863
, 4F100JD14
, 4F100JG01B
, 4F100JL02
引用特許: