特許
J-GLOBAL ID:200903093344492836

水素分離材料及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 鴨田 朝雄
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-358431
公開番号(公開出願番号):特開2001-170460
出願日: 1999年12月17日
公開日(公表日): 2001年06月26日
要約:
【要約】【課題】 パラジウム合金より優れた水素透過性を有し、安価に製造できる水素透過膜を、多孔体基材の表面に備えた水素分離材料およびその製造方法を提供する。【解決手段】 金属粉もしくはセラミック粉を焼結して得た多孔体の表面に、V、Nb、またはTaの金属膜か、あるいは、V、Nb、またはTaに対し、Ni、Co、またはMoを、5〜20wt%添加した合金膜を形成する。前記膜の膜厚は、1〜70μmの範囲内であることが望ましい。また、前記膜の上に、パラジウムまたはパラジウム-銀系合金からなる酸化防止膜が形成する。上記酸化防止膜の膜厚は、0.1〜2.0μmの範囲内であることが望ましい。前記酸化防止膜を形成する前に、真空中でアルゴンガスによるイオンボンバードを行ってもよい。また、前記膜または前記酸化防止膜の表面に、径40〜200μmの硬質ショット球を高速で噴射衝突させてもよい。
請求項(抜粋):
金属粉もしくはセラミック粉を焼結して得た多孔体の表面に、V、Nb、Ta、Vと5〜20wt%Niとの合金、Vと5〜20wt%Coとの合金、Vと5〜20wt%Moとの合金、Nbと5〜20wt%Niとの合金、Nbと5〜20wt%Coとの合金、Nbと5〜20wt%Moとの合金、Taと5〜20wt%Niとの合金、Taと5〜20wt%Coとの合金、およびTaと5〜20wt%Moとの合金からなる群より選ばれた1種からなる膜が形成された水素分離材料。
IPC (7件):
B01D 71/02 500 ,  B01D 67/00 ,  B01D 69/02 ,  C01B 3/56 ,  C22C 27/02 101 ,  C22C 27/02 102 ,  C22C 27/02 103
FI (7件):
B01D 71/02 500 ,  B01D 67/00 ,  B01D 69/02 ,  C01B 3/56 Z ,  C22C 27/02 101 Z ,  C22C 27/02 102 Z ,  C22C 27/02 103
Fターム (20件):
4D006GA41 ,  4D006KE16Q ,  4D006KE16R ,  4D006MA02 ,  4D006MA03 ,  4D006MA06 ,  4D006MA31 ,  4D006MB04 ,  4D006MC02 ,  4D006MC03 ,  4D006NA31 ,  4D006NA62 ,  4D006NA63 ,  4D006NA64 ,  4D006PB66 ,  4D006PC01 ,  4D006PC80 ,  4G040FA06 ,  4G040FC01 ,  4G040FE01

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