特許
J-GLOBAL ID：200903093349153541
ビニルモノマー、重合体、フォトレジスト組成物、及びそれを用いたパターン形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
京本 直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-203150
公開番号（公開出願番号）：特開平8-259626
出願日： 1995年08月09日
公開日（公表日）： 1996年10月08日
要約：
【要約】【目的】 波長220nm以下の遠紫外光、特にArFエキシマレーザに対して高い透明性を有し、かつ耐ドライエッチング耐性に優れ、更に高感度、高解像度を有するフォトレジスト組成物を提供する。【構成】 一般式(1)で示されるビニルモノマーを含む高分子前駆体を重合して得られる重合体と露光により酸を発生する光酸発生剤を含有することを特徴とするフォトレジスト組成物(但し、R1 は水素原子或いはメチル基、R2 は炭素数7〜13の2価の有橋環式炭化水素基、R3 は酸により分解する基、又は水素原子、Xはアルキレン基、又は酸素-炭素結合からなる連結基、Yはアルキレン基、又は炭素-炭素結合からなる連結基を表す)。【化1】
請求項（抜粋）：
一般式(1)で示されることを特徴とするビニルモノマー。【化1】(上式において、R1 は水素原子或いはメチル基、R2 は炭素数7〜13の2価の有橋環式炭化水素基、R3 は酸により分解する基、或いは水素原子、Xはアルキレン基、又は酸素-炭素結合からなる連結基、Yはアルキレン基、又は炭素-炭素結合からなる連結基)
IPC (6件)：
C08F 20/26 MMK
, C08K 5/00 LHV
, C08L 33/14 LHV
, G03F 7/004 503
, G03F 7/039 501
, H01L 21/027
C08F 20/26 MMK
, C08K 5/00 LHV
, C08L 33/14 LHV
, G03F 7/004 503
, G03F 7/039 501
, H01L 21/30 502 R
