特許

J-GLOBAL ID：200903093351460109

光源装置

発明者： 榎波 龍雄
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 則近 憲佑
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-206638
公開番号（公開出願番号）：特開平5-047637
出願日： 1991年08月19日
公開日（公表日）： 1993年02月26日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】 凹面鏡の円環状領域を利用して低ひずみ露光を行う半導体ウエハ露光用エキシマレーザの出力光を円環状光束に適合するように整形して光の利用率を高くする。【構成】 エキシマレーザ発光部11から出たほぼ矩形断面を有する平行光束Lを分割プリズム17に投射して直角に分割偏向する。分割光束L1,L2は反射鏡18a,18bで斜め方向に反射されて合成プリズム19に入り、離れた2本の平行ビームL3となり円弧状または三日月状の透過部をもつマスク21を通して効率よく円弧状または三日月状断面をもつ光束となりウエハ露光装置の効率のよい光源となる。

請求項（抜粋）：

平行光線源と、この平行光線源から発せられた平行光とほぼ同軸的に設けられ、上記平行光を2分割する分割光学系と、上記2分割された分割平行光をX字状に交差する方向に反射する一対の反射光学系と、これら反射光学系で反射された上記分割平行光がほぼくの字に交差する箇所に設けられ上記くの字に合体した合成平行光に成形する合成プリズムと、上記合成平行光をほぼ円弧状に成形するマスクとを備えたことを特徴とする光源装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 505 ,  G03F 7/20 521 ,  H01S 3/104