特許

J-GLOBAL ID：200903093356236169

真空容器の製造方法、真空容器、および真空容器の製造装置

発明者： 榎本 貴志
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (8件)： 鈴江 武彦 ,  河野 哲 ,  中村 誠 ,  蔵田 昌俊 ,  峰 隆司 ,  福原 淑弘 ,  村松 貞男 ,  橋本 良郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-232399
公開番号（公開出願番号）：特開2007-048625
出願日： 2005年08月10日
公開日（公表日）： 2007年02月22日
要約：

【課題】気密性の高い真空容器を安価に製造することが可能な真空容器の製造方法、真空容器、および真空容器の製造装置を提供する。【解決手段】少なくとも2種類の部材11、12の封着部に結晶性の低融点ガラス19、21を配置して封着層を形成する。実質的に非酸化性の雰囲気中に少なくとも2種類の部材を配置して加熱し、低融点ガラスの結晶を析出させる。この状態で低融点ガラスにより部材同士を封着して真空容器10を形成する。低融点ガラスの結晶が析出した後、部材の加熱状態を維持した状態で、真空容器内部を排気する。【選択図】 図3

請求項（抜粋）：

少なくとも2種類の部材を封着して形成する真空容器の製造方法において、 前記部材の封着部に結晶性の低融点ガラスを配置して封着層を形成し、 実質的に非酸化性の雰囲気中に前記少なくとも2種類の部材を配置して加熱し、前記低融点ガラスの結晶を析出させた状態で前記低融点ガラスにより前記部材同士を封着して真空容器を形成し、 前記低融点ガラスの結晶が析出した後、前記部材の加熱状態を維持した状態で前記真空容器内部を排気する真空容器の製造方法。

IPC (2件)：

H01J 9/26 ,  H01J 29/86

FI (2件)：

H01J9/26 A ,  H01J29/86 Z

Fターム (4件)：

5C012AA05 ,  5C012BC03 ,  5C032AA01 ,  5C032BB18

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 表示装置およびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-124685   出願人：株式会社東芝
• 特開昭50-03570号公報