特許

J-GLOBAL ID：200903093360428935

パターニング用マスク及びその製造方法

発明者： 中幡 英章 ,  桧垣 賢次郎 ,  八郷 昭広 ,  鹿田 真一
出願人/特許権者： 住友電気工業株式会社
代理人 (1件)： 川瀬 茂樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-223855
公開番号（公開出願番号）：特開2000-054111
出願日： 1998年08月07日
公開日（公表日）： 2000年02月22日
要約：

【要約】【課題】 蒸着、スパッタリングなどを選択的に行うためのマスクは金属製のものが使われてきた。剛性が足りないので金属のマスクは厚みが100μm以下のものができない。だからパターンも100μm以下の微細なものはできない。より細かいパターンを形成できるマスクを作製すること。【解決手段】ダイヤモンドによって所望のパターンの開口部を有し厚みが10μm〜100μmのマスクを作製する。

請求項（抜粋）：

開口部と桟の部分よりなるパターンを含み基板の上に置かれ蒸着、スパッタリング、CVDなどの薄膜形成をこれを通じて行うようにした平板状のマスクであって、厚みが10μm〜100μmの板状ダイヤモンドからなるパターニング用マスク。

IPC (4件)：

C23C 14/04 ,  C23C 16/04 ,  H01L 21/203 ,  H01L 21/285

FI (4件)：

C23C 14/04 A ,  C23C 16/04 ,  H01L 21/203 Z ,  H01L 21/285 M

Fターム (20件)：

4K029AA24 ,  4K029BA33 ,  4K029BA34 ,  4K029BD01 ,  4K029CA10 ,  4K029GA05 ,  4K029HA02 ,  4K030BA28 ,  4K030BB14 ,  4K030CA12 ,  4K030DA08 ,  4K030KA46 ,  4M104DD71 ,  4M104HH14 ,  5F103AA10 ,  5F103DD30 ,  5F103GG02 ,  5F103GG05 ,  5F103KK03 ,  5F103RR10