特許
J-GLOBAL ID：200903093361155088
投影露光装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-103086
公開番号（公開出願番号）：特開平6-314646
出願日： 1993年04月28日
公開日（公表日）： 1994年11月08日
要約：
【要約】【目的】 スリットスキャン露光方式の投影露光装置において、露光時間を長くすることなく焦点深度を実質的に深くする。【構成】 スリット状の照明領域に対してレチクルを走査するのと同期して、その照明領域と共役な露光領域33に対してウエハ19をX方向に速度Vで走査して、レチクルのパターンを逐次ウエハ19上に投影露光する。このとき、曲線36で示すように、ウエハ19の或る露光点34aが幅Dの露光領域33を横切る時間T0 と同じ周期T1 で、ウエハ19の露光面の投影光学系の光軸方向の位置(フォーカス位置Z)を周期的に振動させる。
請求項（抜粋）：
露光光で所定形状の照明領域を照明する照明光学系と、転写用のパターンが形成されたマスクの前記照明領域内のパターンの像を感光性の基板上に投影する投影光学系とを有し、前記照明領域に対して前記マスクを所定の走査方向に走査し、前記マスクの走査と同期して前記走査方向と共役な方向に前記基板を走査することにより、前記マスクのパターンの像を逐次前記基板上に投影露光する装置において、前記マスクの走査と同期して前記基板を走査する基板側ステージと、前記投影光学系の結像面と前記基板の露光面との前記投影光学系の光軸方向の相対位置を変化させる相対変位手段と、前記マスクのパターンの像を逐次前記基板上に投影露光する際に、前記所定形状の照明領域に対して前記基板上で共役な露光領域の前記走査方向と共役な方向の幅と等しい距離を前記基板側ステージが移動する時間の2倍又は1/nの周期で(nは1以上の整数)、前記相対変位手段を介して前記投影光学系の結像面と前記基板の露光面とを相対的に移動させる制御手段と、を有することを特徴とする投影露光装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03B 27/32
, G03F 7/20 521
