X線発生装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：杉谷勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-192454
公開番号（公開出願番号）：特開平11-040393
出願日： 1997年07月17日
公開日（公表日）： 1999年02月12日
要約：

【要約】【課題】 X線発生の際の変換効率が良好でX線の連続発生が可能となるようにする。【解決手段】この発明のX線発生装置は、レーザビームの照射によりX線を放出する材料で形成されているX線発生用ターゲット1と、このターゲット1が内側に配設されている真空容器2と、真空容器2の中のターゲット1にレーザビームLBを照射するレーザビーム照射部3とを備え、レーザビーム照射部3からのレーザビームLBを、ターゲット1に照射することによりX線を放出させる構成であり、X線発生の際の変換効率が非常に良くて、ターゲットの温度上昇を十分に抑えられる結果、X線の連続発生が可能となり、撮影効率が改善される。

請求項（抜粋）：

レーザビームの照射によりX線を放出する材料で形成されているX線発生用ターゲットと、少なくとも前記X線発生用ターゲットが内側に配設されている真空容器と、真空容器内のX線発生用ターゲットにレーザビームを照射するレーザビーム照射手段とを備えていることを特徴とするX線発生装置。

IPC (4件)：

H05G 2/00 , G21K 5/02 , G21K 5/08 , H01J 35/00

FI (4件)：

H05G 1/00 J , G21K 5/02 X , G21K 5/08 X , H01J 35/00 Z

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開平4-227237
特開平1-137543
特開昭57-130350

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