特許

J-GLOBAL ID：200903093379640900

露光装置

発明者： 北野 博 ,  柳原 政光 ,  小板橋 英樹
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 永井 冬紀
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-166064
公開番号（公開出願番号）：特開平10-012531
出願日： 1996年06月26日
公開日（公表日）： 1998年01月16日
要約：

【要約】【課題】 マスクアライメント信号の信号強度を飽和させることなく、基板アライメント信号の信号強度を最適に設定できるようにする。【解決手段】 マスク200上には複数のマーク要素MYで構成されたマスクアライメントマーク202a〜202fが設けられ、液晶プレート400上には複数のマーク要素MYで構成された基板アライメントマーク402a〜402fが設けられている。レーザ光でアライメントマークを走査してマークからの回折光を受光してアライメント信号を形成する。レーザ光で走査されるマスクアライメントマーク201a〜201fのマーク要素MYの個数が、レーザ光で走査される基板アライメントマーク401a〜401fのマーク要素MYの個数よりも少なくなるように、アライメント時のマスク200と基板400の位置関係を設定する。これにより、両マークのアライメント信号の強度が略等しくなる。

請求項（抜粋）：

転写するパターンと複数のマーク要素からなるマスクアライメントマークとが形成されたマスクを載置するマスクステージと、基板アライメントマークが形成され、前記パターンが投影光学系を介して転写される被露光基板を載置する基板ステージと、前記マスクアライメントマークと前記投影光学系を介して前記基板アライメントマークをレーザ光で走査する走査手段と、前記マスクアライメントマークからの回折光と基板アライメントマークからの回折光を受光する受光手段と、前記受光手段からの信号に基づいて前記マスクアライメントマークと基板アライメントマークとの相対的位置関係を検出する検出手段とを有する露光装置において、前記レーザ光で走査される前記マスクアライメントマークのマーク要素の個数が、前記レーザ光で走査される前記基板アライメントマークのマーク要素の個数よりも少なくなるように、前記レーザ走査時の前記マスクと前記基板の位置関係を設定することを特徴とする露光装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00

FI (4件)：

H01L 21/30 525 D ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00 H ,  H01L 21/30 525 L