特許

J-GLOBAL ID：200903093379975945

光ディスク原盤の製造方法

発明者： 貴志 俊法 ,  永島 道芳 ,  植野 文章 ,  高本 健治 ,  宮本 寿樹 ,  阿部 伸也
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 小鍜治 明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-300742
公開番号（公開出願番号）：特開平6-150392
出願日： 1992年11月11日
公開日（公表日）： 1994年05月31日
要約：

【要約】【目的】 微小な信号ピットを持つ光ディスク原盤を製造すること、および隣接するトラックで交互に信号ピット深さが異なる信号ピットを持つ高密度な光ディスク原盤を製造することを目的とする。【構成】 フォトレジスト1を塗布したディスク基板2に、レーザ光により信号を記録し、現像した後ディスク基板2をエッチングすることにより微小ピットを形成する。また前記工程のエッチング時にエッチ量を変更してエッチングし、前記工程を複数回繰り返すことにより、ピット深さの異なる複数の信号ピット列10、11を同一ディスク基板2上に形成する。

請求項（抜粋）：

光ディスク原盤の製造方法において、フォトレジストを、形成すべきピット深さをディスク基板材料エッチレートのフォトレジストのエッチレートに対する割合(選択比)で除した値より厚い膜厚にて塗布する工程と、レーザ光を基板上に照射し露光する工程と、露光部を現像し基板表面を露出させる工程と、露出した基板表面部をエッチングし基板上に信号ピットを形成する工程と、該基板上に残存するフォトレジストを除去する工程からなる光ディスク原盤の製造方法。