特許
J-GLOBAL ID：200903093390780960
シリコン含有蛍石とそれを用いた光学系及び露光装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
福森 久夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-068017
公開番号（公開出願番号）：特開平9-315895
出願日： 1997年03月21日
公開日（公表日）： 1997年12月09日
要約：
【要約】【課題】短波長で高出力の光を長期間繰り返し照射した場合であっても、透過率特性が劣化し難い蛍石、それよりなる光学系及び該光学系を用いたフォトリソグラフィー用の露光装置を提供すること。【解決手段】 シリコンを含む蛍石であって、シリコンの含有量が50ppm以下であることを特徴とする蛍石。シリコンを含む蛍石であって、シリコンの含有量が50ppm以下である蛍石からなるエキシマレーザー用の光学系。シリコンを含む蛍石であって、シリコンの含有量が50ppm以下である蛍石からなるレンズを有する光学系と、露光される基板を保持するステージとを備えたことを特徴とするフォトリソグラフィー用の露光装置。
請求項（抜粋）：
シリコンを含む蛍石であって、シリコンの含有量が50ppm以下であることを特徴とする蛍石。
IPC (4件)：
C30B 29/12
, C01F 11/22
, G02B 1/02
, G03F 7/20 521
C30B 29/12
, C01F 11/22
, G02B 1/02
, G03F 7/20 521
