不飽和第4級アンモニウム塩の製造法

発明者： ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-094153
公開番号（公開出願番号）：特開平8-268985
出願日： 1995年03月29日
公開日（公表日）： 1996年10月15日
要約：

【要約】【目的】反応速度を向上させるとともに、特にアクリル酸の少ない、高純度の化1(式中、R1 は水素原子またはメチル基、R2 、R3 はC1〜C4の低級アルキル基、nは2〜4の整数、AはOまたはNHを表す。)で表される不飽和第4級アンモニウム塩の工業的に有利な製造法を提供する。【化1】CH2=C(R1)-CO-A-(CH2)n-N(CH3)(R2)(R3)+Cl-【構成】 N,N-ジメチルアミノエチルアクリレート、アセトン、水を添加した反応容器をメチルクロライドガスで置換し、メチルクロライドガスを連続的に供給しながら40°C、5時間反応した。反応終了後、減圧エアレーションによりアセトンを除去することにより、N,N-ジメチルアミノエチルアクリレートのメチルクロライド4級塩水溶液を得た。該溶液中の反応副生物であるアクリル酸の量は696ppmであった。

請求項（抜粋）：

化1(式中、R1 は水素原子またはメチル基、R2 、R3 はC1 〜C4 低級アルキル基、nは2〜4の整数、AはOまたはNHを表す。)で表される不飽和第3級アミンとメチルクロライドとを溶媒存在下反応させて、化2(式中、R1 は水素原子またはメチル基、R2 、R3 はC1 〜C4 低級アルキル基、nは2〜4の整数、AはOまたはNHを表す。)で表される不飽和第4級アンモニウム塩を製造するにあたり、反応容器空間部のメチルクロライド分圧を高めた後、反応させる事を特徴とする高純度不飽和第4級アンモニウム塩の製造法。【化1】CH2=C(R1)-CO-A-(CH2)n-N(R2)(R3)【化2】CH2=C(R1)-CO-A-(CH2)n-N(CH3)(R2)(R3)+Cl-

IPC (3件)：

C07C219/08 , C07C213/02 , C07C233/38

FI (3件)：

C07C219/08 , C07C213/02 , C07C233/38

引用特許：

審査官引用 (12件)

特開平3-135945
特開平2-243661
特開昭60-061554

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