特許

J-GLOBAL ID：200903093414028687

基板洗浄装置

発明者： 山下 哲朗
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 吉田 茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-263613
公開番号（公開出願番号）：特開平11-102854
出願日： 1997年09月29日
公開日（公表日）： 1999年04月13日
要約：

【要約】【課題】 揮発性の低い洗浄液であっても効率よく短時間で乾燥させることができる基板洗浄装置を提供する。【解決手段】 タンク10に貯留されたNMP(N-メチルピロリドン)およびタンク20に貯留されたIPA(イソプロピルアルコール)はそれぞれ液体マスフロコントローラ15、25によって供給量が調整されて二流体ノズル40に送られる。二流体ノズル40は二種類の洗浄液NMP、IPAをそれぞれの供給量に応じて混合し、その混合洗浄液はノズル先端部45からポリイミドが付着した基板Wの周縁部に吐出される。IPAは、NMPと溶解しかつ揮発性が高いため、基板Wの周縁部分のポリイミドを除去したNMPはIPAと共に短時間で効率よく蒸発・乾燥される。

請求項（抜粋）：

主面に膜が形成された基板の周縁部を洗浄する基板洗浄装置であって、(a) 前記膜の成分を溶解可能な第1の洗浄液を供給する第1洗浄液供給手段と、(b) 前記第1の洗浄液と溶解し前記第1の洗浄液よりも揮発性の高い第2の洗浄液を供給する第2洗浄液供給手段と、(c) 前記第1の洗浄液の供給量を調整する第1洗浄液供給量調整手段と、(d) 前記第2の洗浄液の供給量を調整する第2洗浄液供給量調整手段と、(e) 前記第1の洗浄液と前記第2の洗浄液とを混合して混合洗浄液を生成する混合手段と、(f) 前記基板の周縁部に前記混合洗浄液を吐出する吐出手段と、を備えることを特徴とする基板洗浄装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  H01L 21/304 341

FI (2件)：

H01L 21/30 577 ,  H01L 21/304 341 N