高速熱処理炉の温度制御方法

発明者：
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：中本菊彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-200059
公開番号（公開出願番号）：特開平7-037828
出願日： 1993年07月19日
公開日（公表日）： 1995年02月07日
要約：

【要約】【目的】被処理体を均一かつ適正な温度下で再現性良く高速加熱処理して、スループットの向上及び歩留まりの向上を図る。【構成】複数のウエハWを配列収容するプロセスチューブ1と、このプロセスチューブ1の外部からウエハWを加熱するヒータ3a〜3cとを有する高速加熱処理炉において、実際の処理の前に、プロセスチューブ1内にデータ作成用のウエハDWa〜DWcを配置してヒータ3a〜3cによる加熱を行い、そのときのデータ作成用のウエハDWa〜DWcの温度と、ヒータ3a〜3cの温度と、プロセスチューブ1の内部温度とを測定してその測定データをメモリ21に記憶しておき、実際の処理の際に、プロセスチューブ1の内部温度とメモリ21の記憶データとに基いてヒータ3a〜3cの温度を制御する。これにより、ウエハWの急速加熱状況に応じた温度制御を正確に行い、ウエハ表面の浅い拡散深さを再現性良く制御することができる。

請求項（抜粋）：

処理室内に複数の被処理体を配列して収容し、処理室の外部に設けた加熱手段で加熱処理するに当って、実際の処理の前に、上記処理室にデータ作成用の被処理体を配置して上記加熱手段による加熱を行い、そのときの被処理体の温度と、加熱手段の温度と、処理室の内部温度とを測定してその測定データを記憶手段に記憶しておき、実際の処理の際に、処理室の内部温度と上記データとに基いて上記加熱手段の温度を制御するようにしたことを特徴とする高速熱処理炉の温度制御方法。

IPC (3件)：

H01L 21/22 511 , H01L 21/205 , H01L 21/31

引用特許：

審査官引用 (5件)

特開平2-091930
特開平2-091930
特開平4-098826

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