特許

J-GLOBAL ID：200903093457931186

舌苔除去剤

発明者： 石川 正夫
出願人/特許権者： ライオン株式会社
代理人 (1件)： 小島 隆司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-199197
公開番号（公開出願番号）：特開平9-025221
出願日： 1995年07月12日
公開日（公表日）： 1997年01月28日
要約：

【要約】【課題】 口臭発生の主原因部位である舌苔を化学的に除去でき、これにより長時間口臭を抑制することができる舌苔除去剤を得る。【解決手段】 N-アセチルムラミダーゼ、ムタノリシン、リゾチーム、レバナーゼ及びリパーゼから選ばれる酵素とベタイン型、N-アシルタウリン型、メチルグルコシルエステル型、ジアルキルスルホコハク酸型及びモノアシルリン酸型の界面活性剤から選ばれる1種又は2種以上とを併用する。

請求項（抜粋）：

N-アセチルムラミダーゼ、ムタノリシン、リゾチーム、レバナーゼ及びリパーゼから選ばれる酵素と、ベタイン型、N-アシルタウリン型、メチルグルコシルエステル型、ジアルキルスルホコハク酸型及びモノアシルリン酸型の界面活性剤から選ばれる1種又は2種以上とを併用してなることを特徴とする舌苔除去剤。

IPC (3件)：

A61K 7/28 ,  A23G 3/30 ,  A61K 9/00

FI (3件)：

A61K 7/28 ,  A23G 3/30 ,  A61K 9/00 V