特許
J-GLOBAL ID：200903093461692374

処理装置およびそれに用いられる耐食性部材

発明者：
大槻 林

大槻 林 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 高山 宏志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-373973
公開番号（公開出願番号）：特開2001-226773
出願日： 2000年12月08日
公開日（公表日）： 2001年08月21日
要約：
【要約】【課題】 処理容器内壁の腐食の問題が生じ難い処理装置を提供すること。また、耐プラズマ性および耐腐食ガス性に優れた、処理装置に用いられる耐食性部材を提供すること。【解決手段】 被処理基板であるウエハWを収容するチャンバー11と、チャンバーの11上方に設けられたベルジャー12と、ベルジャー12内に誘導電磁界を形成するためのアンテナ部材としてのコイル65と、コイル65に高周波電力を印加する高周波電源66と、処理ガスを供給するガス供給機構40とを具備し、ベルジャー12内に形成された誘導電磁界によりプラズマを形成してウエハWを処理する処理装置において、ベルジャー12は、その内壁が周期律表第3a族元素化合物を含む膜14からなる。
請求項（抜粋）：
被処理基板を収容する処理容器と、前記処理容器内の被処理基板に処理を施す処理機構とを具備する処理装置であって、前記処理容器は、その内壁が周期律表第3a族元素化合物を含む膜からなることを特徴とする処理装置。
IPC (8件)：
C23C 16/44 ,  B01J 19/00 ,  B01J 19/08 ,  C23C 4/10 ,  C23C 16/509 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/3065 ,  H01L 21/31
FI (10件)：
C23C 16/44 J ,  B01J 19/00 K ,  B01J 19/08 H ,  C23C 4/10 ,  C23C 16/509 ,  C23F 4/00 Z ,  H01L 21/31 E ,  H01L 21/31 C ,  H01L 21/31 B ,  H01L 21/302 N
引用特許：
審査官引用 (5件)
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