特許

J-GLOBAL ID：200903093462576815

ソルダーレジストパターン形成方法

発明者： 釜萢 裕一 ,  稲垣 昇司
出願人/特許権者： 太陽インキ製造株式会社
代理人 (1件)： ▲吉▼田 繁喜
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-268189
公開番号（公開出願番号）：特開平7-050473
出願日： 1985年04月19日
公開日（公表日）： 1995年02月21日
要約：

【要約】【目的】 光硬化性、熱硬化性、希アルカリ水溶液での現像性に優れ、密着性、硬度、耐溶剤性、耐酸性、電気特性、耐熱性、耐メッキ性などの諸特性に優れたソルダーレジスト膜を得る。【構成】 (A)ノボラック型エポキシ化合物と不飽和モノカルボン酸との反応物と、飽和又は不飽和多塩基酸無水物とを反応せしめて得られる45〜160mgKOH/gの酸価を有する活性エネルギー線硬化性樹脂、(B)光重合開始剤、(C)希釈剤及び(D)一分子中に2個以上のエポキシ基を有するエポキシ化合物からなる熱硬化性成分を含んでなる希アルカリ溶液により現像可能な光硬化性及び熱硬化性の液状レジストインキ組成物をプリント配線基板に塗布し、所定パターンを形成したレジストパターンフィルムを通して選択的に活性エネルギー線により露光して光硬化させ、未露光部分を希アルカリ現像液で現像してレジストパターンを形成し、その後、加熱して熱硬化させる。

請求項（抜粋）：

(A)ノボラック型エポキシ化合物と不飽和モノカルボン酸との反応物と、飽和又は不飽和多塩基酸無水物とを反応せしめて得られる45〜160mgKOH/gの酸価を有する活性エネルギー線硬化性樹脂、(B)光重合開始剤、(C)希釈剤及び(D)一分子中に2個以上のエポキシ基を有するエポキシ化合物からなる熱硬化性成分を含んでなる希アルカリ溶液により現像可能な光硬化性及び熱硬化性の液状レジストインキ組成物をプリント配線基板に塗布し、所定のパターンを形成したレジストパターンフィルムを通して選択的に活性エネルギー線により露光して光硬化させ、未露光部分を希アルカリ現像液で現像してレジストパターンを形成し、その後、加熱して熱硬化させることを特徴とするソルダーレジストパターン形成方法。

IPC (6件)：

H05K 3/28 ,  C09D 11/00 PTE ,  C09D 11/10 PTR ,  G03F 7/027 515 ,  G03F 7/028 ,  H05K 3/06