特許
J-GLOBAL ID：200903093466235095
X線偏光分析器及びそのX線偏光分析方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
若林 忠 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-343259
公開番号（公開出願番号）：特開平11-174002
出願日： 1997年12月12日
公開日（公表日）： 1999年07月02日
要約：
【要約】【課題】 異なる直線偏光成分を共通な偏光素子回転位置で測定する事ができるX線偏光分析器及びそのX線偏光分析方法を提供する。【解決手段】 本発明では回折に寄与するσ偏光X線成分2にとっては十分厚く、透過強度がほどんどなく、回折に寄与しないπ偏光X線成分5にとっては十分に薄く、吸収による減衰が少なくて十分透過できるようなX線偏光素子a3を用いた。又、それぞれの偏光成分の来る位置に同一性能の検出器aと検出器bとをおいた。さらにσ偏光X線成分2を、 X線偏光素子a3に対する入射X線1の方向と平行にするため、十分に厚い結晶をX線偏光素子b4として、もう1枚使い、σ偏光X線成分2とπ偏光X線成分5のX線束を平行にした。
請求項（抜粋）：
X線偏光分析器において、σ偏光X線成分に対しては透過強度が小さく、π偏光X線成分に対しては透過強度が大きい性能を有する第1のX線偏光素子を備えたことを特徴とするX線偏光分析器。
IPC (2件)：
FI (2件)：
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