特許
J-GLOBAL ID:200903093466866290

電子ビーム照射によるポリマー組成物の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 川口 義雄 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-152365
公開番号(公開出願番号):特開平5-230228
出願日: 1992年06月11日
公開日(公表日): 1993年09月07日
要約:
【要約】 (修正有)【目的】 耐摩耗性とロスフレックス性能とが改善され、また他の特性をそれほど損なわないエラストマー組成物、及びこれらの組成物からの履物の製造方法を提供する。(a) ポリ(ビニル芳香族化合物)を主成分とする少なくとも1個のブロックと、ポリ(共役ジエン)を主成分とする少なくとも1個のブロックとを含む30〜60重量%の量の線状ブロックコポリマーと、(b) 前述した如きブロックコポリマーと混和性がある10〜50重量%の量の熱可塑性ポリマーと、(c) 20〜40重量%の量の非芳香族油とからなる組成物に対して1.0〜4.5MeVのエネルギー強さで、50〜400kGyの範囲の線量で電子ビーム照射を実施する電子ビーム照射によるゴム状組成物の製造方法。
請求項(抜粋):
(a) ポリ(ビニル芳香族化合物)を主成分とする少なくとも1個のブロックと、ポリ(共役ジエン)を主成分とする少なくとも1個のブロックとを含む、組成物全体の重量に対して30〜60重量%の量の線状ブロックコポリマーと、(b) 前述した如きブロックコポリマーと混和性がある、組成物全体の重量に対して10〜50重量%の量の熱可塑性ポリマーと、(c) 組成物全体の重量に対して20〜40重量%の量の非芳香族油と、を含む組成物に対して1.0〜4.5MeVのエネルギー強さで、50〜400kGyの範囲の線量で電子ビーム照射を実施することを特徴とする、電子ビーム照射によるポリマー組成物の製造方法。
IPC (4件):
C08J 3/28 CEQ ,  C08L 53/02 LLX ,  C08L 91/00 LSJ ,  C08L101/00 LSZ

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