特許
J-GLOBAL ID：200903093467186535
露光方法および装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
深見 久郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-041583
公開番号（公開出願番号）：特開平6-258848
出願日： 1993年03月03日
公開日（公表日）： 1994年09月16日
要約：
【要約】【目的】 露光工程を実施するにあたり、基板の位置合わせマークおよびフォトマスクの位置合わせマーク相互の位置ずれを、たとえばフォトマスクにおける作画のスケーリングを変更することなく、修正することを可能にする。【構成】 フォトマスク2として、温度および/または湿度の変化によって伸縮する性質を有するものを用い、基板1およびフォトマスク2のそれぞれの位置合わせマーク3および4相互の位置ずれ量をCCDカメラ11によって検出し、その位置ずれを修正すべくフォトマスク2を伸縮させる温度および/または湿度条件を、温度/湿度制御装置14において位置ずれ量から求め、求められた温度および/または湿度条件を、空気調整装置15からフォトマスク2に与えて位置ずれを修正する。
請求項（抜粋）：
複数個の位置合わせマークを有する基板の露光すべき面側に、対応する複数個の位置合わせマークを有するフォトマスクを配置し、フォトマスクを通して紫外線を基板の露光すべき面に照射して基板を露光する露光方法において、フォトマスクとして、温度および/または湿度の変化によって伸縮する性質を有するものを用いるとともに、基板およびフォトマスクのそれぞれの位置合わせマーク相互の位置ずれ量を検出し、位置合わせマーク相互の位置ずれを修正すべくフォトマスクを伸縮させる温度および/または湿度条件を位置ずれ量から求め、求められた温度および/または湿度条件をフォトマスクに与えて位置合わせマーク相互の位置ずれを修正する、各工程を備えることを特徴とする、露光方法。
IPC (5件)：
G03F 9/00
, G01B 11/00
, G03B 27/02
, G05D 3/12
, H01L 21/027
H01L 21/30 311 G
, H01L 21/30 311 H
