特許
J-GLOBAL ID：200903093494391957
薄膜磁気ヘッドの製造方法及びそれを搭載した磁気ディスク装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-097139
公開番号（公開出願番号）：特開平11-296822
出願日： 1998年04月09日
公開日（公表日）： 1999年10月29日
要約：
【要約】【課題】0.5μm 以下のトラック幅をもつ磁気ヘッドを作製し、面記録密度7Gbit/in2以上の磁気ディスク装置を得る。【解決手段】磁気ディスク装置の磁気ヘッドのトラック幅を形成するためのレチクルにラインアンドスペースパターンを用い、露光に輪帯照明,4開口照明等の超解像技術を適用し、0.5μm 以下のトラック幅を形成する。
請求項（抜粋）：
面記録密度が7Gbit/in2以上の磁気ディスク装置において、再生に巨大磁気抵抗効果を用いた再生ヘッドを有し、記録ヘッドのトラック幅をフレームめっき法によって決定する薄膜磁気ヘッドの該記録ヘッドの該トラック幅が0.5μm以下である薄膜磁気ヘッドを搭載することを特徴とする薄膜磁気ヘッドを搭載した磁気ディスク装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
前のページに戻る
