渦流探傷プローブ

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：土井健二 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-240215
公開番号（公開出願番号）：特開2001-066293
出願日： 1999年08月26日
公開日（公表日）： 2001年03月16日
要約：

【要約】【課題】構造が簡単で、且つ安価に作成できる検知感度の高い渦流探傷プローブを提供する。【解決手段】配線を有する基板とケーブルを接続して磁界を輻射するコイルを形成した構成の渦流探傷プローブが提供される。これにより、簡単な構造の渦流探傷プローブを安価に作成することができる。また、基板の配線とケーブルの配線を一つずつずらして接続することで、磁束が被検物の表面から比較的深い位置まで到達するタンジェンシャルコイルが簡単に作成されるので、検知感度の高い渦流探傷プローブを提供することができる。

請求項（抜粋）：

励磁により生成された磁束に誘導される渦電流を検知する渦流探傷プローブにおいて、n本の配線を有する基板と、m本の配線を有するケーブルと、前記基板のk番目の配線の一端を前記ケーブルのk番目の配線の一端と接続する第一のコネクタと、前記基板のk番目の配線の他端を前記ケーブルのk+1番目の配線の他端と接続する第二のコネクタとを含む磁界輻射構造体と、前記基板の配線と前記ケーブルの配線に流れる電流により生成される磁束に誘導される渦電流が流れる検知コイルとを備えることを特徴とする渦流探傷プローブ。

Fターム (9件)：

2G053AA11 , 2G053AB21 , 2G053BA02 , 2G053BA21 , 2G053BC14 , 2G053CA03 , 2G053DA01 , 2G053DB01 , 2G053DB03

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