特許

J-GLOBAL ID：200903093508782148

露光装置

発明者： 鈴 木 昭 夫
出願人/特許権者： 株式会社オーク製作所
代理人 (1件)： 磯野 道造
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-066188
公開番号（公開出願番号）：特開2000-267294
出願日： 1999年03月12日
公開日（公表日）： 2000年09月29日
要約：

【要約】【課題】将来的に基板の通常の回路パターン内に、部分的に高密度・高細線パターンが混在する構成となっても、高い生産性を維持し、あわせて比較的安価な露光装置を提供することを課題とする。【解決手段】高密度・高細線パターンWaの部分をマスキングしたマスクMにより全面一括露光し、回路を形成する一括露光機構4と、前記高密度・高細線パターンの部分を、より解像力の優れた光学系により部分露光し、回路を形成する部分露光機構7(17)と、を兼備する露光装置として構成した。

請求項（抜粋）：

高密度・高細線パターンの部分をマスキングしたマスクにより全面一括露光し、回路を形成する一括露光機構と、前記高密度・高細線パターンの部分を、より解像力の優れた光学系により部分露光し、回路を形成する部分露光機構と、を兼備することを特徴とする露光装置。

IPC (3件)：

G03F 7/20 501 ,  H01L 21/027 ,  H05K 3/00

FI (3件)：

G03F 7/20 501 ,  H05K 3/00 H ,  H01L 21/30 502 C

Fターム (6件)：

2H097AA03 ,  2H097AA07 ,  2H097BA10 ,  2H097CA17 ,  2H097GA06 ,  2H097GB00