特許

J-GLOBAL ID：200903093530744640

蒸着装置及び蒸着方法

発明者： 信宮 利昭
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (2件)： 西山 恵三 ,  内尾 裕一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-350978
公開番号（公開出願番号）：特開2006-161074
出願日： 2004年12月03日
公開日（公表日）： 2006年06月22日
要約：

【課題】昇華精製後の材料への酸素や水の吸着を防止することができる生産性の高い蒸着装置及び蒸着方法を提供すること。【解決手段】成膜を行う真空チャンバー、真空チャンバー外に設置された蒸着材料を充填する第1の容器、第1の容器と真空チャンバーを連結するチューブ、チャンバーへ繋がるチューブを開閉するバルブ、第1の容器を加熱する手段、チューブを加熱する手段から構成され、蒸着開始以前に蒸着材料の沸点より低い温度で蒸着材料から低沸点物質を除去する手段を含んで蒸着装置を構成する。又、蒸着材料を充填した第1の容器と、第1の容器に連結された低沸点物質を除去する手段を持つことを特徴とする蒸着装置において、蒸着開始前に低沸点物質を除去し、低沸点物質除去後の材料を外気に暴露させないで基板に蒸着する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

成膜を行う真空チャンバー、真空チャンバー外に設置された蒸着材料を充填する第1の容器、第1の容器と真空チャンバーを連結するチューブ、チャンバーへ繋がるチューブを開閉するバルブ、第1の容器を加熱する手段、チューブを加熱する手段から構成され、蒸着開始以前に蒸着材料の沸点より低い温度で蒸着材料から低沸点物質を除去する手段を持つことを特徴とする蒸着装置。

IPC (3件)：

C23C 14/24 ,  H05B 33/10 ,  H01L 51/50

FI (3件)：

C23C14/24 E ,  H05B33/10 ,  H05B33/14 A

Fターム (8件)：

3K007AB18 ,  3K007DB03 ,  3K007FA01 ,  4K029BA62 ,  4K029BB02 ,  4K029CA01 ,  4K029DB06 ,  4K029DB14

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 有機EL素子およびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-236696   出願人：ティーディーケイ株式会社