レジスト・パターン形成方法およびこれに用いるレジスト・パターン形成システム

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小池晃 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-290495
公開番号（公開出願番号）：特開平7-142356
出願日： 1993年11月19日
公開日（公表日）： 1995年06月02日
要約：

【要約】【目的】フォトレジスト層の露光からPEB(露光後熱処理)までの時間、およびPEBから冷却までの時間を正確に制御し、線幅安定性を向上させる。【構成】露光ユニット9とPEBを行うための加熱ユニット5、あるいはさらに冷却ユニット13とを、主搬送系2から独立した専用搬送系6により連結したシステムを構築する。これは、従来のレジスト塗布/現像装置に内蔵される加熱ユニットおよび冷却ユニットを従来の露光装置に連結した構成であるが、従来の露光装置に加熱ユニットと冷却ユニットとを内蔵させた構成としても良い。【効果】レジスト反応に最も大きな影響を与える工程間の所要時間が専用搬送系により正確かつ迅速に管理できるので、化学増幅系レジスト材料を用いた場合にも良好なパターンが形成できる。

請求項（抜粋）：

基板上のレジスト材料層に対する露光の終了時から熱処理の開始時までの時間を一定かつ他工程間の所要時間とは独立に制御することを特徴とするレジスト・パターン形成方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/38 511

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開平4-239720
特開平3-154324
特開平4-239720

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