特許
J-GLOBAL ID：200903093534810370
基板の面位置制御方法及び制御装置、並びに露光方法及び露光装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
平木 祐輔 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-100614
公開番号（公開出願番号）：特開平10-294257
出願日： 1997年04月17日
公開日（公表日）： 1998年11月04日
要約：
【要約】【課題】 感光基板周辺部に位置する欠けショットに対して正確なフォーカシング調整及びレベリング調整を行う。【解決手段】 全てのフォーカス計測点が計測可能なショット領域を露光する時、フォーカシング調整及びレベリング調整終了後の各フォーカス計測点P11,P12,P13,...のフォーカス値をオフセットとして記憶しておく。そして、欠けショット13Bに対しては、計測可能なフォーカス計測点P11〜P23におけるフォーカス値が記憶したフォーカス値と同じ値になるように近似平面LCを求め、その近似平面LCが基準面(投影光学系のベストフォーカス面)LOに一致するようにフォーカシング及びレベリング調整を行う。
請求項（抜粋）：
表面凹凸パターンを有するブロック領域が複数形成された基板上の1つのブロック領域の表面の近似平面を、前記1つのブロック領域内の複数の計測点において計測した基準面からの距離に基づいて求め、前記近似平面が前記基準面と所定の位置関係となるように前記基板を駆動する基板の面位置制御方法において、前記基板の周辺部に位置する前記ブロック領域の前記基準面からの距離を求める際、前記計測点の一部が前記基板上に位置しないとき、前記基板上に位置する計測点で計測された前記基準面からの距離計測値を該計測点に対応する前記表面凹凸パターンの段差情報に基づいて補正し、補正された前記基準面からの距離を用いて前記近似平面を求めることを特徴とする基板の面位置制御方法。
FI (2件)：
H01L 21/30 526 B
, H01L 21/30 518
