特許

J-GLOBAL ID：200903093545689158

製造システム

発明者： 吉田 治正
出願人/特許権者： 浜松ホトニクス株式会社
代理人 (1件)： 長谷川 芳樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-067429
公開番号（公開出願番号）：特開2001-257245
出願日： 2000年03月10日
公開日（公表日）： 2001年09月21日
要約：

【要約】【課題】 不良品製造を事前に抑制する製造システムを提供する。【解決手段】 本装置においては、分光部18によって、処理装置17における反応状態を直接反映するプラズマ発光スペクトルを測定する。良品製造時の光スペクトルに基づいて、評価値の範囲を設定しておく。実際の製造時においては、同様に発光スペクトルを測定し、そこから計算された評価値が、上記範囲内にあるかどうかを判定する。この範囲を逸脱した場合、装置を停止し、処理装置17に投入される材料及び時間を節約する。

請求項（抜粋）：

チャンバ内に配置される材料に特定処理を施す処理装置と、前記チャンバ内からのスペクトルを検出するスペクトル検出手段と、前記処理装置から搬出された材料の特性検査を行う特性検査装置とを備える半導体製造システムにおいて、前記処理装置によって前記材料に特定処理を施しつつ前記スペクトル検出手段によってスペクトルを検出し、検出された現在のスペクトルを、過去のスペクトル及び前記特性検査装置による特性検査結果に基づいて評価する評価手段を備えることを特徴とする製造システム。

IPC (3件)：

H01L 21/66 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/3065

FI (3件)：

H01L 21/66 L ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/302 E

Fターム (30件)：

4M106AA01 ,  4M106BA20 ,  4M106CA10 ,  4M106CA21 ,  4M106CA38 ,  4M106CA43 ,  4M106CA48 ,  4M106CB01 ,  4M106CB19 ,  4M106DH12 ,  4M106DJ12 ,  4M106DJ18 ,  4M106DJ20 ,  4M106DJ21 ,  4M106DJ40 ,  5F004AA01 ,  5F004BA04 ,  5F004BB07 ,  5F004BB13 ,  5F004BB18 ,  5F004BC08 ,  5F004CB02 ,  5F045AA08 ,  5F045BB08 ,  5F045BB20 ,  5F045EC03 ,  5F045EH14 ,  5F045EH16 ,  5F045GB08 ,  5F045GB16

引用特許：

審査官引用 (4件)

• プラズマエッチング装置のエッチングモニタ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-279683   出願人：株式会社日立製作所
• 特開平2-292841
  
• 特開昭62-050610
  
• 特開平4-252045