特許
J-GLOBAL ID:200903093547818990
プラスチック成形品の製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-255056
公開番号(公開出願番号):特開2001-077512
出願日: 1999年09月09日
公開日(公表日): 2001年03月23日
要約:
【要約】【課題】機械的強度特性が劣る易めっき性プラスチックス材料を用いて化学粗化処理しても金属めっき層との密着性を顕著に向上することができるプラスチック成形品の製造方法を提供すること。【解決手段】無電解めっきを容易に行うことができる易めっき性プラスチックス材料を用いて射出成形回路基板若しくは射出成形回路部品の骨格部材である一次成形体を一次成形し、次に該一次成形体のめっき不要部分の外表面上に無電解めっきが困難な難めっき性プラスチックス材料を二次成形し、次に該二次成形体の無電解めっきを行う易めっき性プラスチックス材料の露出部分を化学薬品により粗化処理し、然る後該粗化処理面上に無電解めっきを行うプラスチック成形品の製造方法において、前記二次成形体の無電解めっきを行う易めっき性プラスチックス材料の露出部分の粗化処理を該粗化処理により得られた凹溝の下端が該二次成形体の成形外周線より0.2〜0.8mm下側に位置するように粗化処理することを特徴とするプラスチック成形品の製造方法にある。
請求項(抜粋):
無電解めっきを容易に行うことができる易めっき性プラスチックス材料を用いて射出成形回路基板若しくは射出成形回路部品の骨格部材である一次成形体を一次成形し、次に該一次成形体のめっき不要部分の外表面上に無電解めっきが困難な難めっき性プラスチックス材料を用いて二次成形体を二次成形し、次に該二次成形体の無電解めっきを行う易めっき性プラスチックス材料の露出部分を化学薬品により粗化処理し、然る後該粗化処理面上に無電解めっきを行うプラスチック成形品の製造方法において、前記二次成形体の無電解めっきを行う易めっき性プラスチックス材料の露出部分の粗化処理を該粗化処理により得られた粗化凹溝の下端が該二次成形体の成形外周線より0.2〜0.8mm下側に位置するように粗化処理することを特徴とするプラスチック成形品の製造方法。
IPC (5件):
H05K 3/18
, B29C 45/14
, B29C 45/16
, H05K 3/00
, B29L 31:34
FI (4件):
H05K 3/18 B
, B29C 45/14
, B29C 45/16
, H05K 3/00 W
Fターム (15件):
4F206AD05
, 4F206AH36
, 4F206JA07
, 4F206JB12
, 4F206JB21
, 4F206JN12
, 4F206JW50
, 5E343AA12
, 5E343AA35
, 5E343BB14
, 5E343BB24
, 5E343CC43
, 5E343DD33
, 5E343EE37
, 5E343GG02
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