特許
J-GLOBAL ID：200903093563430706
表面詳細抽出システム及び表面詳細抽出プログラム
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
三好 秀和
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-083808
公開番号（公開出願番号）：特開2004-295258
出願日： 2003年03月25日
公開日（公表日）： 2004年10月21日
要約：
【課題】表面に詳細形状を備える三角形メッシュモデルから表面詳細を再利用性が高い状態で抽出する。【解決手段】基本形状推定部11により三角形メッシュモデルに対してローパスフィルタを適用して表面に詳細形状が合成されているとみなされる基本形状メッシュを推定し、高周波成分抽出部12により詳細形状を高周波成分とみなしてローパスフィルタによって失われた高周波成分を抽出し、パラメタライゼーション生成部13により推定基本形状メッシュの各頂点についての位相構造を基本平面に持つパラメタライゼーションを生成し、表面詳細生成部14によりパラメタライゼーションの各頂点に対して高周波成分に基づく高さ値を与えることにより表面詳細メッシュを生成する。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
表面に詳細形状が合成された三角形メッシュモデルに対してローパスフィルタを適用して基本形状メッシュを推定する基本形状推定手段と、
前記ローパスフィルタによって失われた高周波成分を抽出する高周波成分抽出手段と、
推定された基本形状メッシュの各頂点の位相構造を基本平面に持つパラメタライゼーションを生成するパラメタライゼーション生成手段と、
前記パラメタライゼーションの各頂点に対して前記高周波成分に基づく高さ値を与えて表面詳細メッシュを生成する表面詳細生成手段と、
を有することを特徴とする表面詳細抽出システム。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G06F17/50 622C
, G06T17/20
