特許

J-GLOBAL ID：200903093564480073

アクティブマトリクス基板の製造方法

発明者： 錦 博彦 ,  山本 明弘 ,  大上 裕之
出願人/特許権者： シャープ株式会社
代理人 (1件)： 山本 秀策
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-148014
公開番号（公開出願番号）：特開平11-337973
出願日： 1998年05月28日
公開日（公表日）： 1999年12月10日
要約：

【要約】【課題】 絵素電極と有機絶縁膜との密着性をより良好にする高開口率アクティブマトリクス基板の製造方法を提供する。【解決手段】 アクティブマトリクス基板の製造方法は、スイッチング素子と配線とを覆う有機絶縁膜を形成した後、絵素電極を形成する前に、有機絶縁膜の表面をN2ガスを用いてプラズマ処理する工程を包含する。

請求項（抜粋）：

基板上に複数のスイッチング素子を形成する工程と、該スイッチング素子に信号を印加するための配線を形成する工程と、該スイッチング素子と該配線とを覆う有機絶縁膜を形成する工程と、該有機絶縁膜にコンタクトホールを形成する工程と、該有機絶縁膜の表面をN2ガスを用いてプラズマ処理する工程と、該プラズマ処理された該有機絶縁膜の表面上に、該コンタクトホールを介して該スイッチング素子と電気的に接続される該絵素電極を形成する工程と、を包含する、アクティブマトリクス基板の製造方法。

IPC (2件)：

G02F 1/136 500 ,  G02F 1/1343

FI (2件)：

G02F 1/136 500 ,  G02F 1/1343