特許
J-GLOBAL ID：200903093566209032
薄膜磁気ヘッド及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-342524
公開番号（公開出願番号）：特開平11-175915
出願日： 1997年12月12日
公開日（公表日）： 1999年07月02日
要約：
【要約】【課題】本発明の目的は、狭トラック幅および高アスペクト磁気コアを高精度に形成し、高記録密度に対応可能な薄膜磁気ヘッドとその製法を提供する。【解決手段】導体コイルの絶縁膜の高さtは4μm以上、絶縁膜上から連続して形成する磁気コアの媒体対向面での幅Wは1.2μm以下、その高さhは2.5μm以上である薄膜磁気ヘッド。その製造方法は、上部磁気コアの形成にフレームめっき法を用い、前記めっき法に用いられるフレームは3層以上の多層膜を形成する工程と、多層膜の最上層であるレジスト膜をフォトリソグラフィでパターン形成する工程と、リアクティブイオンエッチング(RIE)を二回以上行って前記パターンを下層に転写する工程を順次行い、前記フレームを用いて上部磁気コアを形成するものである。
請求項（抜粋）：
導体コイル、前記導体コイルの電気的絶縁のための絶縁膜,磁気ギャップ膜,上部磁気コア及び下部磁気コアを有する薄膜磁気ヘッドにおいて、絶縁膜の高さtは4μm以上であり、絶縁膜上から連続して形成する上部磁気コアの媒体対向面での幅Wは1.2μm以下であり、かつその高さhは2.5μm 以上であることを特徴とする薄膜磁気ヘッド。
FI (2件)：
G11B 5/31 C
, G11B 5/31 F
