特許

J-GLOBAL ID：200903093566264955

脱臭装置

発明者： 大石 強 ,  廣見 勉
出願人/特許権者： オリエンタル機電株式会社 ,  廣見 勉
代理人 (1件)： 西教 圭一郎 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-305636
公開番号（公開出願番号）：特開2003-112010
出願日： 2001年10月01日
公開日（公表日）： 2003年04月15日
要約：

【要約】【課題】 維持管理が容易で、装置のランニングコストおよび維持コストの低減を図ることができる脱臭装置を提供する。【解決手段】 脱臭装置1は、除塵部2と、プラズマ反応部3と、ヒータ部4と、触媒充填部5と、酸性ガス吸収部6と、導気手段7とを含む。除塵部2は、塵埃および臭気成分を含むガスから塵埃を除去する。プラズマ反応部3は、放電によって非平衡プラズマを発生させて、臭気成分を含むガスを処理する。触媒充填部5は、処理されたガスを触媒作用によってさらに処理する触媒が充填される。酸性ガス吸収部6は、ガス処理によって生じた酸性ガスを吸収する。導気手段7は、除塵部2から酸性ガス吸収部6側に向かってガスを導く。ヒータ部4は、触媒充填部5のガスの流下方向上流側に設けられ、触媒充填部5の触媒を加熱する。

請求項（抜粋）：

塵埃および臭気成分を含むガスから塵埃を除去する除塵部と、放電によって非平衡プラズマを発生させて、臭気成分を含むガスを処理するプラズマ反応部と、処理されたガスを触媒作用によってさらに処理する触媒が充填された触媒充填部と、ガス処理によって生じた酸性ガスを吸収する酸性ガス吸収部と、前記除塵部から酸性ガス吸収部側に向かってガスを導く導気手段とを含み、前記触媒充填部のガスの流下方向上流側には、前記触媒充填部の触媒を加熱するための加熱部が設けられることを特徴とする脱臭装置。

IPC (5件)：

B01D 53/38 ,  B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/81 ,  B01D 53/86 ,  G21F 9/02

FI (4件)：

G21F 9/02 Z ,  B01D 53/34 116 A ,  B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/36 H

Fターム (30件)：

4D002AA03 ,  4D002AA05 ,  4D002AA12 ,  4D002AA13 ,  4D002AA14 ,  4D002AA32 ,  4D002AB02 ,  4D002AC10 ,  4D002BA03 ,  4D002BA05 ,  4D002BA07 ,  4D002BA12 ,  4D002BA14 ,  4D002CA07 ,  4D002CA20 ,  4D002DA05 ,  4D002DA12 ,  4D002DA16 ,  4D002DA25 ,  4D002DA41 ,  4D002HA01 ,  4D048AA22 ,  4D048AB01 ,  4D048BA28X ,  4D048BA35X ,  4D048BA41X ,  4D048CC52 ,  4D048CD03 ,  4D048EA03 ,  4D048EA04