特許
J-GLOBAL ID：200903093567813421
光学素子の製造方法およびそれに用いる微小液晶高分子層領域
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
前島 肇
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-128910
公開番号（公開出願番号）：特開平8-304627
出願日： 1995年04月28日
公開日（公表日）： 1996年11月22日
要約：
【要約】【目的】 高コントラスト化、カラー化、透過率の向上および視角の改良に効果を示す光学素子の製造方法を提供する。【構成】 配向基板上に形成された液晶高分子層において、最小の差渡し (Lmin)が10mm以下であり、かつLmin/d(dは液晶高分子層の厚み)が10以上となるように設定した微小液晶高分子層領域を、接着剤を介して他の基板に接着し、次いで、該配向基板と他の基板とを剥離することにより微小液晶高分子層領域を他の基板上に転写することを特徴とする光学素子の製造方法、およびそれに用いる微小液晶高分子層領域。
請求項（抜粋）：
配向基板上に形成された液晶高分子層において、最小の差渡し(Lmin)が10mm以下であり、かつLmin/d(dは液晶高分子層の厚み)が10以上となるように設定した微小液晶高分子層領域を、接着剤を介して他の基板に接着し、次いで、該配向基板と他の基板とを剥離することにより微小液晶高分子層領域を他の基板上に転写することを特徴とする光学素子の製造方法。
IPC (6件)：
G02B 5/30
, C09K 19/38
, G02B 1/00
, G02B 5/20
, G02F 1/1333
, G02F 1/1335 510
G02B 5/30
, C09K 19/38
, G02B 1/00
, G02B 5/20
, G02F 1/1333
, G02F 1/1335 510
