特許
J-GLOBAL ID：200903093572599675
層状のリチウム化された遷移金属酸化物の低温合成
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
谷 義一 (外1名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-505158
公開番号（公開出願番号）：特表平10-510239
出願日： 1996年06月19日
公開日（公表日）： 1998年10月06日
要約：
【要約】単層相の層状リチウム化された遷移金属酸化物材料の製造方法であって、遷移金属水酸化物をリチウム源と、塩基性溶液中、水の存在下で、大気圧より大きい圧力、温度約50〜150°Cで反応させる工程を具えている。
請求項（抜粋）：
式 HxA1-xMO2[式中、AはIa族のアルカリ金属であり、Xは0.99〜0の数であり、Mは遷移金属である。]の単層の層状アルカリ金属酸化物材料の製造方法であって、アルカリ金属イオン源を、MOOH[式中、Mは上に定義したとおりである。]と塩基性溶液中、水の存在下、温度約50〜約150°C、および大気圧より大きい圧力で反応させる工程を具えることを特徴とする製造方法。
IPC (5件)：
C01G 53/04
, C01G 51/00
, C01G 51/04
, C01G 53/00
, H01M 4/58
C01G 53/04
, C01G 51/00 A
, C01G 51/04
, C01G 53/00 A
, H01M 4/58
