特許
J-GLOBAL ID:200903093583104856

パウダービームエッチングの方法及びこの方法を用いて加工したポリゴンミラー

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 高橋 光男
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-101408
公開番号(公開出願番号):特開平5-293758
出願日: 1992年04月21日
公開日(公表日): 1993年11月09日
要約:
【要約】【目的】パウダービームをパターンマスク上から、被加工物の表面に高速噴射してエッチングを施し、微細加工においても超精密な加工を施せるようにする。【構成】所定の厚みを有する被加工物5の表面に中心穴7と正多角形突条8を同一なる軸線9で形成したパターンマスク4を被せ、このパターンマスク4上からパウダービーム11を高速噴射させることにより、この被加工物5にエッチングを施し、これら中心穴7と正多角形12の立体形状を同時に形成する方法である。及び、この方法を用い加工して、ポリゴンミラーを得る。
請求項(抜粋):
所定の厚みを有する被加工物の表面に中心穴と正多角形を同一なる軸線で形成したパターンマスクを施し、該パターンマスク上からパウダービームを高速噴射させることにより、前記被加工物にエッチングを施し、前記中心穴と正多面体の立体形状を同時に形成したことを特徴とするパウダービームエッチングの方法。
IPC (2件):
B24C 1/04 ,  G02B 26/10 102

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