投影露光装置

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-008456
公開番号（公開出願番号）：特開平8-203801
出願日： 1995年01月23日
公開日（公表日）： 1996年08月09日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】どのようなパターン周期にも対応して最適な照明条件を与える。【構成】光源1と、該光源から射出された光をレチクル5上に集光するする照明光学系2と、前記レチクルのパターンを基板7上に投影する投影光学系6とを有する投影露光装置において、前記照明光学系は第1照明光学系21と第2照明光学系22とを有し、前記第1照明光学系21は前記光源射出された光を補助マスク3上に集光させ、前記第2照明光学系22は前記補助マスクと前記レチクル5とが共役となる位置に配置され、前記第2照明光学系中に中央部に0次回折光を遮蔽するための遮光部を設けたインコヒーレント化素子4を配置し、前記補助マスクのパターンは前記第2照明光学系による前記レチクルの像のパターンの2倍の周期を有する投影露光装置。

請求項（抜粋）：

光源と、該光源から射出された光をレチクル上に集光するする照明光学系と、前記レチクルのパターンを基板上に投影する投影光学系とを有する投影露光装置において、前記照明光学系は第1照明光学系と第2照明光学系とを有し、前記第1照明光学系は前記光源射出された光を補助マスク上に集光させ、前記第2照明光学系は前記補助マスクと前記レチクルとが共役となる位置に配置され、前記第2照明光学系中に中央部に0次回折光を遮蔽するための遮光部を設けたインコヒーレント化素子を配置し、前記補助マスクのパターンは前記第2照明光学系による前記レチクルの像のパターンの2倍の周期を有することを特徴とする投影露光装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 , G03B 27/32 , G03B 27/34 , G03F 7/20 521

FI (2件)：

H01L 21/30 515 D , H01L 21/30 516 C

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