特許
J-GLOBAL ID:200903093600806916
ケイ光体粒子サイズコントロール用の改良されたフラックス
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
高木 千嘉 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-314591
公開番号(公開出願番号):特開平6-228543
出願日: 1993年12月15日
公開日(公表日): 1994年08月16日
要約:
【要約】 (修正有)【構成】a)1つ以上のアルカリ金属硫酸塩1〜99重量%;b)1つ以上のアルカリ金属メタホウ酸塩1〜99重量%;およびc)1つ以上のストロンチウムハロゲン化物0〜50%から構成される、ケイ光体粒子の製造に使用するフラックス組成物。また本フラックスを使用するケイ光体の製作方法、およびこのケイ光体を含有するX線増感スクリーン。【効果】このフラックス組成物中のメタホウ酸塩とストロンチウムハロゲン化物の濃度を変えることにより、ケイ光体粒子のサイズと乾燥見掛け密度およびケイ光体のスピードとをそれぞれ制御できる。
請求項(抜粋):
a) 少なくとも1つのアルカリ金属硫酸塩1〜99重量%;b) 少なくとも1つのアルカリ金属メタホウ酸塩1〜99重量%;およびc) 少なくとも1つのストロンチウムハロゲン化物0〜50重量%から構成される、ケイ光体粒子の製造に使用するフラックス組成物。
IPC (4件):
C09K 11/02
, C09K 11/00
, C09K 11/78 CPB
, G03C 5/17
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