走査型露光装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：猪熊克彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-316305
公開番号（公開出願番号）：特開平11-135419
出願日： 1997年10月30日
公開日（公表日）： 1999年05月21日
要約：

【要約】【課題】シャッター以降の光学部品が不必要に光にさらされることがなく、したがってこれらの光学部品の寿命を長くすることができる走査型露光装置を提供する。【解決手段】光源1からの光束2を入射して2次光源を形成するオプチカルインテグレータ13,15と、2次光源からの光束を分岐するビームスプリッター18と、光源1とオプチカルインテグレータ13,15との間に配置されるシャッター5とを有し、マスク26を照射する照明光学系と、マスク26上に形成されたパターンの一部の像を感光基板29上に投影する投影光学系28とを備え、マスク26と感光基板29とを相対移動することにより、マスク26上のパターンを感光基板29上に転写する走査型露光装置において、光源1を射出してシャッター5で反射される光束の強度と、ビームスプリッター18で分岐される光束の強度とに基づいて、光源1の出力を制御する。

請求項（抜粋）：

光源からの光束を入射して2次光源を形成するオプチカルインテグレータと、前記2次光源から射出される光束の一部を分岐するビームスプリッターと、前記光源と前記オプチカルインテグレータとの間に配置されるシャッターとを有し、前記2次光源からの光束でマスクを照射する照明光学系と、前記マスク上に形成されたパターンの一部の像を感光基板上に投影する投影光学系とを備え、前記マスクと前記感光基板とをそれぞれ前記投影光学系に対して相対移動することにより、前記マスク上のパターンを前記感光基板上に転写する走査型露光装置において、前記光源を射出して前記シャッターで反射される光束の強度と、前記ビームスプリッターで分岐される光束の強度とに基づいて、前記光源の出力を制御することを特徴とする走査型露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521

FI (4件)：

H01L 21/30 518 , G03F 7/20 521 , H01L 21/30 515 E , H01L 21/30 516 C

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