特許
J-GLOBAL ID:200903093664324370
排水処理装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
長谷川 芳樹 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-027203
公開番号(公開出願番号):特開2002-224689
出願日: 2001年02月02日
公開日(公表日): 2002年08月13日
要約:
【要約】【課題】 脱窒槽の嫌気性条件を維持しつつ外部の有臭ガスを効率的に脱臭することが可能な脱臭装置を備えた排水処理装置を提供する。【解決手段】 循環脱窒型の排水処理装置100において、循環装置70は、活性汚泥含有排水を噴霧する噴霧手段25と有臭ガスを活性汚泥含有排水中に散気する散気手段26とを具備するとともに噴霧された液滴が落下するガス液滴接触部43が形成された脱臭装置1を備えていて、有臭ガスが活性汚泥含有排水中に散気されて効率よく接触して脱臭され、さらに、脱臭されず水面上に放出された有臭ガスがガス液滴接触部43を落下する液滴と効率よく接触して脱臭される。また、脱窒槽10とは別の容器を備える脱臭装置1内で脱窒槽10に循環される排水と有臭ガスとが接触され、脱臭される際に脱窒槽10内の排水と有臭ガスとが直接接触しない。
請求項(抜粋):
有機性排水を受け入れ嫌気性条件下で脱窒処理を行なう脱窒手段と、前記脱窒手段で脱窒処理された排水を受け入れ好気性条件下で硝化処理を行なう硝化手段と、前記硝化手段で硝化処理された排水の少なくとも一部を前記脱窒手段に戻す循環手段とを備える排水処理装置において、前記循環手段は、所定の水位に排水が保持される容器と、前記脱窒手段に戻される排水を前記容器内の上方から噴霧して液滴を形成させる噴霧手段と、前記容器内に保持される排水中に有臭ガスを散気する散気手段とを具備しており、前記噴霧手段と前記容器内に保持された排水の液面との間に前記液滴が前記液面まで前記有臭ガスと向流接触しつつ自由落下するガス液滴接触部が形成されていることを特徴とする、排水処理装置。
IPC (2件):
C02F 3/34 101
, B01D 53/18
FI (2件):
C02F 3/34 101 B
, B01D 53/18 E
Fターム (5件):
4D020AA09
, 4D020BA30
, 4D020CB27
, 4D040BB05
, 4D040BB57
引用特許:
出願人引用 (3件)
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特開昭57-180421
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消泡冷却脱臭方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-208926
出願人:住友重機械エンバイロテツク株式会社, 住友重機械工業株式会社
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微生物脱臭装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-354204
出願人:株式会社日本製鋼所
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