特許

J-GLOBAL ID：200903093679635135

熱処理装置

発明者： 中尾 賢 ,  小林 誠 ,  長内 長栄
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 金坂 憲幸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-049774
公開番号（公開出願番号）：特開平10-233277
出願日： 1997年02月18日
公開日（公表日）： 1998年09月02日
要約：

【要約】【課題】 ヒータ線のクリープや熱膨張等による伸びの一端側への累積を防止することができ、ヒータ線の耐久性の向上が図れる熱処理装置を提供する。【解決手段】 反応管3の周囲に配置される螺旋状のヒータ線9と、このヒータ線9の周囲に設けられる円筒状の断熱材10と、この断熱材10の内周に上記ヒータ線9を熱膨張および熱収縮可能に所定のピッチで支持する支持体18とを備えた熱処理装置において、上記ヒータ線9を適宜ターン毎に固定手段21を介して上記断熱材に固定している。

請求項（抜粋）：

反応管の周囲に配置される螺旋状のヒータ線と、このヒータ線の周囲に設けられる円筒状の断熱材と、この断熱材の内周に上記ヒータ線を熱膨張および熱収縮可能に所定のピッチで支持する支持体とを備えた熱処理装置において、上記ヒータ線を適宜ターン毎に固定手段を介して上記断熱材に固定したことを特徴とする熱処理装置。

IPC (5件)：

H05B 3/06 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/22 511 ,  H01L 21/31 ,  H05B 3/46

FI (5件)：

H05B 3/06 C ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/22 511 A ,  H01L 21/31 E ,  H05B 3/46