特許
J-GLOBAL ID：200903093681259400
投影露光装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
筒井 大和
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-160887
公開番号（公開出願番号）：特開平7-183210
出願日： 1984年06月11日
公開日（公表日）： 1995年07月21日
要約：
【要約】【目的】 大気圧ないし投影露光装置の環境気圧の変動に起因する投影光学系の焦点位置の変動を防止し、転写パターンの寸法精度および合わせ精度を向上して高精度なパターン転写を実現する。【構成】 照明光学系4、レチクル5、レチクル5のパターンを半導体ウェーハ22に転写する投影光学系7、半導体ウェーハ22が載置されるX,Yテーブル21、投影光学系7の一部を構成し、移動レンズ支持体40に保持された移動レンズ39、移動レンズ支持体40を介してレチクル5に対して移動レンズ39を上下動させる圧電素子16、環境気圧を検知する気圧計23からの信号によって圧電素子16を制御する制御部24を含み、環境気圧の変動に応じて、移動レンズ39をレチクル5に対して上下動させることにより、環境気圧の変動に起因する投影光学系7の半導体ウェーハ22に対する倍率変化を補正する投影露光装置である。
請求項（抜粋）：
半導体ウェーハが載置されるテーブルと、照明光学系と、所望の転写パターンを有するレチクルと、第1および第2のレンズ群からなり、少なくとも前記レチクル側において実質的にテレセントリックで、前記転写パターンを前記半導体ウェーハの一主面に投影する投影光学系と、前記半導体ウェーハに対する前記転写パターンの投影倍率を調整する倍率調整機構と、前記投影光学系の前記半導体ウェーハに対する焦点位置を調整する焦点位置調整機構と、大気圧または投影露光装置の環境気圧の変動を検出する気圧計と、前記気圧計によって検出された前記大気圧または環境気圧の変動量に応じて、前記投影光学系を構成する第1および第2のレンズ群のうち、前記レチクルに近い側の前記第2のレンズ群を光軸方向に変位させることにより前記半導体ウェーハに対する前記転写パターンの投影倍率を調整する倍率調整機構を作動させる制御部とを備えたことを特徴とする投影露光装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03B 27/32
, G03F 7/207
H01L 21/30 516 A
, H01L 21/30 526 Z
