特許
J-GLOBAL ID：200903093721280016
表面処理品の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-006678
公開番号（公開出願番号）：特開2000-208296
出願日： 1999年01月13日
公開日（公表日）： 2000年07月28日
要約：
【要約】【課題】 大気圧近傍の圧力の下で、且つ、過大な設備投資を必要とせず、薄膜と基材との密着性に優れた表面処理品の製造方法を提供する。【解決手段】 少なくとも一方の対向面に固体誘電体60、61が設置された対向電極30、31間に処理用ガス90、91を導入して、大気圧近傍の圧力となし、対向電極30、31間にパルス化された電界を印加することにより、放電プラズマを発生させるとともに、前記対向電極30、31間に設けられた基材11をプラズマ処理する表面処理品の製造方法であって、上記対向電極30、31間に、処理用ガス90、91を基材11の表裏両側から連続して導入する。
請求項（抜粋）：
少なくとも一方の対向面に固体誘電体が設置された対向電極間に処理用ガスを導入して、大気圧近傍の圧力となし、対向電極間にパルス化された電界を印加することにより、放電プラズマを発生させるとともに、前記対向電極間に設けられた基材をプラズマ処理する表面処理品の製造方法であって、上記対向電極間に、処理用ガスを基材の表裏両側から連続して導入することを特徴とする表面処理品の製造方法。
IPC (3件)：
H05H 1/24
, G02B 1/10
, H05H 1/46
H05H 1/24
, H05H 1/46 A
, G02B 1/10 Z
