特許
J-GLOBAL ID:200903093721573935

黒色レジストパターンの形成方法およびカラーフィルターの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 岡田 数彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-255932
公開番号(公開出願番号):特開平10-239864
出願日: 1997年09月04日
公開日(公表日): 1998年09月11日
要約:
【要約】【課題】画素欠陥の一つとして知られている黒色欠陥がないカラーフィルターの製造に好適な黒色レジストパターンの形成方法および当該形成方法を利用したカラーフィルターの製造方法を提供する。【解決手段】黒色材料が分散された光重合性組成物を透明基板上に塗布した後、加熱乾燥、画像露光、現像および熱硬化の各処理を行って黒色レジストパターンを形成するに当たり、上記の現像終了後であって熱硬化前に、基板の少なくとも黒色レジストパターン形成面をアニオン系界面活性剤含有洗浄液で処理した後に水洗する。そして、赤、緑、青の材料が各々分散された各光重合性組成物を使用し、上記の黒色レジストパターン(ブラックマトリックス)形成面に、塗布、加熱乾燥、画像露光、現像および熱硬化の各処理を行って各色の画素画像を形成する。
請求項(抜粋):
黒色材料が分散された光重合性組成物を透明基板上に塗布した後、加熱乾燥、画像露光、現像および熱硬化の各処理を行って黒色レジストパターンを形成するに当たり、上記の現像終了後であって熱硬化前に、基板の少なくとも黒色レジストパターン形成面をアニオン系界面活性剤含有洗浄液で処理した後に水洗することを特徴とする黒色レジストパターンの形成方法。
IPC (5件):
G03F 7/40 521 ,  G02B 5/00 ,  G02B 5/20 101 ,  G03F 7/004 505 ,  G03F 7/32 501
FI (5件):
G03F 7/40 521 ,  G02B 5/00 B ,  G02B 5/20 101 ,  G03F 7/004 505 ,  G03F 7/32 501

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