マグネトロンスパッタ装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小川勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-023960
公開番号（公開出願番号）：特開平7-233473
出願日： 1994年02月22日
公開日（公表日）： 1995年09月05日
要約：

【要約】【構成】マグネトロン磁場発生用磁石11,12,14の外側の磁石11,14の移動方向と直交する方向に間隙を設ける。あるいは、間隙を設けるべき場所の磁石の磁束を打ち消す磁石を近接するか、磁性材を近接させて磁束を吸収させる。また、マグネトロン磁場発生用磁石の移動方向に位置するシールドと真空容器とを絶縁し、陽極をマグネトロン磁場発生用磁石11,12,14の移動方向と直交する方向に位置するシールドのみとする。【効果】電子の通路を確保できるため、磁石の位置によらず安定な放電をえることができる。そのため磁石がターゲット中央部に位置するときでも高いプラズマ密度を確保することができる。

請求項（抜粋）：

真空容器中で、薄膜を形成すべき基板と、前記薄膜とすべき物質の塊であるターゲットと、前記ターゲットに対して平行な磁場を形成させるための磁場発生手段を有し、前記磁場発生手段を前記ターゲットに対して移動させる機構を有するマグネトロンスパッタ装置において、前記磁場発生手段の移動方向と直交する方向に位置する前記磁場発生手段の一部に間隙部を設けたことを特徴とするマグネトロンスパッタ装置。

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