特許

J-GLOBAL ID：200903093734564307

紫外線吸収剤前駆体、それを含有する組成物、及び画像形成方法

発明者： 高島 正伸 ,  伊藤 英明
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 中島 淳 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-162658
公開番号（公開出願番号）：特開2002-356669
出願日： 2001年05月30日
公開日（公表日）： 2002年12月13日
要約：

【要約】【課題】 結晶性の低い新規な紫外線吸収剤前駆体、高温環境下においても該前駆体の結晶化による画像欠陥がなく、保存安定性に優れた該紫外線吸収剤前駆体を含有する組成物、及び該組成物を用いて、欠陥のない画像を安定に形成し得る画像形成方法を提供する。【解決手段】 下記一般式(1)で表される紫外線吸収剤前駆体、該紫外線吸収剤前駆体を含有する組成物、及び該組成物を基板上に設ける工程と、基板上の該組成物を露光する工程と、不要な該組成物を現像処理により除去し、基板上に画素を形成する工程と、基板上に形成された画素を加熱処理する工程と、を含む画像形成方法である。〔R1〜R3:加熱により脱保護する保護基、R4〜R6:アルキル基、加熱により脱保護する保護基、R7〜R9:水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、前記加熱により脱保護する保護基がすべて同一の基になることはない。〕【化1】

請求項（抜粋）：

下記一般式(1)で表されることを特徴とする紫外線吸収剤前駆体。【化1】前記一般式(1)において、R1〜R3は、加熱により脱保護する保護基を表す。R4〜R6は、アルキル基、又は加熱により脱保護する保護基を表す。R7〜R9は、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、又はハロゲン原子を表す。ただし、R1〜R3若しくはR1〜R6で表される前記加熱により脱保護する保護基が、すべて同一の基になることはない。

IPC (7件)：

C09K 3/00 104 ,  C08F 2/44 ,  C08K 5/3477 ,  C08L101/00 ,  G02B 5/20 101 ,  G02B 5/22 ,  G03F 7/004 506

FI (7件)：

C09K 3/00 104 B ,  C08F 2/44 B ,  C08K 5/3477 ,  C08L101/00 ,  G02B 5/20 101 ,  G02B 5/22 ,  G03F 7/004 506

Fターム (46件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB13 ,  2H025AD01 ,  2H025CC02 ,  2H048BA45 ,  2H048BA47 ,  2H048BA48 ,  2H048BB34 ,  2H048BB42 ,  2H048CA04 ,  2H048CA09 ,  2H048CA13 ,  2H048CA19 ,  2H048CA27 ,  4J002AA011 ,  4J002BC041 ,  4J002BG011 ,  4J002BG041 ,  4J002EU186 ,  4J002FD097 ,  4J002GP03 ,  4J011AA01 ,  4J011AC04 ,  4J011CC10 ,  4J011PA02 ,  4J011PA16 ,  4J011PA22 ,  4J011PA69 ,  4J011PB25 ,  4J011PB30 ,  4J011PC02 ,  4J011QA03 ,  4J011QA13 ,  4J011QA22 ,  4J011QB16 ,  4J011SA01 ,  4J011SA21 ,  4J011SA31 ,  4J011SA41 ,  4J011SA63 ,  4J011SA76 ,  4J011SA78 ,  4J011SA84 ,  4J011WA01