特許

J-GLOBAL ID：200903093739439870

描画データ検証方法

発明者： 平川 明
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-276438
公開番号（公開出願番号）：特開平7-130596
出願日： 1993年11月05日
公開日（公表日）： 1995年05月19日
要約：

【要約】【目的】本発明の目的は、一括露光方式の電子線描画において、実際に電子線描画する前に描画データ検証を行うことを可能とすることにある。【構成】本発明は、グラフィック・ディスプレイ6を有する電子計算機4において、電子線照射位置情報を持つ描画データ2および転写マスク1のアパーチャ形状情報ファイル3を保持する。【効果】本発明によれば、複数ショットを同時に露光可能な一括露光方式の電子線描画システムにおいて、実際に露光を行う前に描画データの検証が可能となる。

請求項（抜粋）：

1個または複数個の多角形からなるアパーチャを電子線の転写マスクとして持つ電子線描画装置に、電子線照射位置を示す位置情報を含む描画データを該装置に与えることにより、前記アパーチャと同一形状の描画パターンを一時に一括露光する電子線描画システムに対し、記憶手段および図形表示手段を持つ電子計算機において、前記アパーチャ形状情報および前記描画データを記憶手段に記憶し、前記図形表示手段上の座標系において、電子線照射位置に前記アパーチャ形状を表示することを特徴とする描画データ検証方法。