特許
J-GLOBAL ID：200903093751147159
薄膜磁気ヘッドのモニター素子及びその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高橋 勇
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-007796
公開番号（公開出願番号）：特開平10-208214
出願日： 1997年01月20日
公開日（公表日）： 1998年08月07日
要約：
【要約】【課題】 磁気抵抗効果素子用の磁気抵抗効果層とモニター素子用の磁気抵抗効果層とを精度良く同一形状に形成することにより、モニター素子の測定精度を向上させる。【解決手段】 モニター素子10は、下部磁気シールド層52、下部絶縁層54、磁気抵抗効果層561及び上部絶縁層58がこの順に基板60上に積層されてなる磁気抵抗効果素子62と同時に形成され、下部絶縁層54、磁気抵抗効果層562及び上部絶縁層58がこの順に基板60上に積層されてなるものである。そして、モニター素子10を構成する下部絶縁層54と基板60との間に、下部磁気シールド層52と同じ膜厚の高さ調整層12が介挿されている。
請求項（抜粋）：
下部磁気シールド層、下部絶縁層、磁気抵抗効果層及び上部絶縁層がこの順に基板上に積層されてなる磁気抵抗効果素子と同時に形成されるとともに、前記下部絶縁層、前記磁気抵抗効果層及び前記上部絶縁層がこの順に前記基板上に積層されてなる、薄膜磁気ヘッドのモニター素子において、このモニター素子を構成する前記磁気抵抗効果層と前記基板との間に、前記下部磁気シールド層と同じ膜厚の高さ調整層が介挿されていることを特徴とする、薄膜磁気ヘッドのモニター素子。
引用特許：
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